Измерение вольт-амперных характеристик структур нитрида галлия в сильных электрических полях

Страницы: <<  <  16 | 17 | 18 | 19 | 20  >  >>


10
0,09
9,91
0,036

1
10
0,48
9,52
0,192
2
20
0,18
19,82
0,072

2
20
0,968
19,032
0,3872
3
30
0,256
29,744
0,1024

3
30
1,46
28,54
0,584
4
50
0,408
49,592
0,1632

4
50
2,38
47,62
0,952
5
70
0,568
69,432
0,2272

5
70
3,2
66,8
1,28
6
100
0,8
99,2
0,32

6
100
4,28
95,72
1,712
7
150
1,19
148,81
0,476

7
150
5,6
144,4
2,24
8
200
1,54
198,46
0,616

8
200
6,6
193,4
2,64
9
250
1,9
248,1
0,76

9
250
7,28
242,72
2,912
10
300
2,28
297,72
0,912

10
300
7,84
292,16
3,136
11
350
2,6
347,4
1,04

11
350
8,24
341,76
3,296
12
400
2,9
397,1
1,16

12
400
6,24
393,76
2,496
13
450
3,16
446,84
1,264

13
450
6,24
443,76
2,496
14
500
3,38
496,62
1,352

14
500
6,24
493,76
2,496
15
550
3,56
546,44
1,424

15
600
5,84
594,16
2,336
16
600
3,72
596,28
1,488

16
700
6,24
693,76
2,496
17
650
3,84
646,16
1,536

17
800
6,24
793,76
2,496
18
700
3,84
696,16
1,536


Рисунок 7. Вольт-амперные характеристики гетеростуруктур AlGaN/GaN, выращенных на подложках из сапфира и карбида кремния, измеренные при Т 300 К и Т 77 К



Выводы

Страницы: <<  <  16 | 17 | 18 | 19 | 20  >  >>
Рейтинг
Оцени!
Поделись конспектом: